| 项目 | 描述 |
| 设备型号 | UAMT-IJP-X100 |
| 基板类型 | 玻璃基板、Si Wafer,etc. |
| 可打印区域 | ≤300*300mm |
| 运动精度控制 | ±3um |
| 打印精度 | ≤±40μm |
| 喷头选型 | 2~13pL |
| 打印厚度 | 支持不等厚打印，湿膜厚度1~15μm(±5%) |
| 项目 | 描述 |
| 设备型号 | UAMT-IJP-X100 |
| 基板类型 | 玻璃基板、Si Wafer,etc. |
| 可打印区域 | ≤300*300mm |
| 运动精度控制 | ±3um |
| 打印精度 | ≤±40μm |
| 喷头选型 | 2~13pL |
| 打印厚度 | 支持不等厚打印，湿膜厚度1~15μm(±5%) |
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